第二十條（固定污染源排放空氣污染物之排放標準）
公私場所固定污染源排放空氣污染物，應符合排放標準。 前項排放標準，由中央主管機關依特定業別、設施、污染物項目或區域會商有關機關定之。 直轄市、縣（市）主管機關得因特殊需要，擬訂個別較嚴之排放標準，報請中央主管機關會 商有關機關核定之。 第一項排放標準應含有害空氣污染物，其排放標準值應依健康風險評估結果及防制技術可行 性訂定之。 前項有害空氣污染物之種類及健康風險評估作業方式，由中央主管機關公告之。

第二十二條（自動監測設施之設置、監測及檢測）
公私場所具有經中央主管機關指定公告之固定污染源者，應於規定期限內完成設置自動監測 設施，連續監測其操作或空氣污染物排放狀況，並向直轄市、縣（巿）主管機關申請認可； 其經指定公告應連線者，其監測設施應於規定期限內完成與直轄市、縣（巿）主管機關連線 ，並公開於直轄市、縣（巿）主管機關網站。 前項以外之污染源，各級主管機關認為必要時，得指定公告其應自行或委託檢驗測定機構實 施定期檢驗測定。 前二項監測或檢驗測定結果，應作成紀錄，並依規定向直轄市、縣（巿）主管機關申報；監 測或檢驗測定結果之記錄、申報、保存、連線作業規範、完成設置或連線期限及其他應遵行 事項之辦法，由中央主管機關定之。

第二十三條（固定污染源及其空氣污染物之控制管理）
公私場所應有效收集各種空氣污染物，並維持其空氣污染防制設施或監測設施之正常運作； 其固定污染源之最大操作量，不得超過空氣污染防制設施之最大處理容量。 固定污染源及其空氣污染物收集設施、防制設施或監測設施之規格、設置、操作、檢查、保 養、記錄及其他應遵行事項之辦法，由中央主管機關定之。

第二條
本標準專有名詞及符號定義如下： 一、揮發性有機物：指在一大氣壓下，測量所得初始沸點在攝氏二百五十度以下有機化合 物之空氣污染物總稱。但不包括甲烷、一氧化碳、二氧化碳、二、硫化碳、碳酸、碳 酸鹽、碳酸銨、氰化物或硫氰化物等化合物。 二、石化製程：指以化學或物理操作產製各類石油產品、石化基本原料、石化中間產品或 石化產品之製造程序，包括產製各類有機化學品、樹脂、塑膠、橡膠及合成纖維原料 等產品，及硫磺或氫氣等副產品。 三、揮發性有機液體：指揮發性有機物成分占其重量百分比十以上之液體。 四、密閉集氣系統：指可將設備或製程設備元件排出或逸散出之揮發性有機物，捕集並輸 至污染防制設備，使傳送之氣體不直接與大氣接觸之系統。該系統包括集氣設備、管 線及連接裝置。 五、污染防制設備：指處理廢氣之熱焚化爐、觸媒焚化爐、鍋爐或加熱爐等密閉式焚化設 施、冷凝器、吸附裝置、吸收塔、因應緊急狀況使用之廢氣燃燒塔或其他經主管機關 認定者。 六、製程回收系統：指用以回收製程排出有機成分之一個或數個回收設備之組合。 七、非破壞性物料回收處理方式：指製程回收系統以外額外加裝之污染防制設備，具有回 收物料之功能，以減少因破壞性燃燒生成額外之空氣污染物。 八、標準操作溫度：指焚化設施於焚化廢氣後符合規定排放濃度值或達排放削減率之操作 條件下，其溫度監測設施量測之平均溫度。 九、廢氣燃燒塔：指開放式燃燒裝置，該裝置包括具支撐結構之塔身、燃燒嘴、母火裝置 、空氣或蒸氣輔助系統、滅燄器、水封槽、氣液分離設備、集氣管、點火裝置及其他 附屬設施。可分為高架廢氣燃燒塔及地面廢氣燃燒塔。 十、蒸氣輔助燃燒型式廢氣燃燒塔：指焰頂處使用蒸氣噴嘴將蒸氣噴入火焰中，藉以增加 焰頂處空氣紊流效應，促使燃燒更完全之廢氣燃燒塔。 十一、空氣輔助燃燒型式廢氣燃燒塔：指焰頂處使用強制送風方式將空氣噴入火焰中，藉 以增加焰頂處空氣紊流效應，促使燃燒更完全之廢氣燃燒塔。 十二、批次操作：指不連續操作，即系統之進料與出料不在相同時間發生，當所有進料反 應完成後，才進行出料之操作。 十三、空氣氧化單元：指一種或多種有機物與空氣或空氣與氧氣之混合氣體，經由氧化反 應、氧氯化反應或氨氧化反應生成一種或多種有機產物、中間產物之製程單元。 十四、蒸餾操作單元：指藉氣液相平衡原理分離進料中不同沸點揮發性有機物成分之製程 單元。 十五、其他石化製程單元：指空氣氧化單元及蒸餾操作單元以外之石化製程單元。 十六、固定式頂蓋：指以固定方式裝設於儲槽上之頂蓋，不隨液面高低昇降者。 十七、浮動式頂蓋：指以浮動方式裝設於儲槽上之頂蓋，且該頂蓋係直接與液體表面接觸 並隨液面高低昇降，為浮筒式或雙板層式頂蓋，簡稱浮頂。 十八、非接觸式內浮頂蓋：指浮頂之板層位於浮筒上而使板層高於液面數英吋者。 十九、固定頂槽：指儲槽之頂蓋為固定式，且無另設浮頂者。 二十、外浮頂槽：指儲槽之頂蓋為浮動式，且其上方無另設固定式頂蓋者。 二十一、內浮頂槽：指儲槽頂蓋為浮動式，其上方並具有固定式頂蓋者。 二十二、封氣設備：指浮頂邊緣與儲槽內壁間之密封裝置。 二十三、液態鑲嵌式密封：指以泡棉或液體充填之密封彈性體與儲存物料液面接觸之封氣 裝置。 二十四、雙封式密封：指浮頂邊緣與儲槽內壁間裝設二層封氣設備者。密封在下之層稱為 初級密封，密封在上之層稱為二級密封。 二十五、機械式鞋形密封：指以一金屬薄板，藉彈簧及重槓桿使金屬薄板垂直緊抵於儲槽 之槽體壁板上，金屬薄板另一端則以曲柄連接者，屬封氣設備之一種。 二十六、浮頂負載支架：指設於浮頂之浮筒及平台處之浮頂支持腳，其功能係為保持浮頂 與槽底間之距離，以保護槽體壁板下部與槽底之零件與設備，並提供內部檢驗及 清洗之活動空間者。 二十七、支架襯套：指浮頂負載支架與浮頂接合部份。 二十八、自動洩氣閥：指當浮頂下降至接近槽底時，受浮頂負載支架撐開，或當浮頂浮降 中關閉。但浮頂不浮降時則可開啟以排氣之閥。 二十九、邊緣通氣孔：指供排放浮頂下累積於浮頂邊緣之積存空氣與未凝結蒸氣之通氣孔 。 三十、支柱井：指內浮頂槽內用以支撐固定頂之垂直支柱，與內浮頂之接合部份。 三十一、樓梯井：指自固定頂之人孔延伸至槽底之梯子，其於浮頂上之開孔。 三十二、取樣井：指浮頂上供採集儲存物料樣品之開孔。 三十三、計量井：指液位計浮標於浮頂上之開孔。 三十四、壓力槽：指內部壓力大於七百七十三mmHg以上且無自由管道與大氣連通使其操作 時 無任何揮發性有機物排放之儲槽。 三十五、縫隙寬度：指浮頂邊緣與儲槽內壁間之水平寬度。 三十六、裝載操作：指將揮發性有機液體經裝載操作設施導入或導出槽車、儲槽或油輪之 操作。 三十七、裝載操作循環：指物料自開始裝載入槽車、儲槽或油輪至物料停止裝載後其置換 出之揮發性有機物停止逸出為止。 三十八、裝載操作設施：指裝載操作涵蓋之相關設施，包括灌裝臂、泵浦、流量計、關斷 閥、釋壓閥、管線、揮發性有機物收集系統及其他相關閥件等。 三十九、揮發性有機物收集系統：指裝載操作或清槽作業時用以收集被置換出之揮發性有 機物的設備。 四十、輕質液：指在製程操作條件下製程流體為液態，且該製程流體於二十℃時含蒸氣壓 二．二五mmHg以上之揮發性有機物成分占其重量百分比二十以上者。 四十一、重質液：指輕質液以外之揮發性有機液體。 四十二、真空設備元件：指該設備元件於操作時，其所承受之絕對壓力在七百二十二．五 mmHg以下者。 四十三、難以檢測之設備元件：指不易以檢測儀器進行一般性量測之設備元件，包括從地 面進行檢測時，位在高於地面達五公尺以上之設備元件；或從平台進行檢測時， 位在高於該平台達二公尺以上之設備元件。 四十四、開口閥：指閥座一側接觸製程流體，另一側接觸大氣之閥。但不包括釋壓裝置。 四十五、線上取樣分析系統：指該取樣系統非以人工抽取式操作，而係採管線上自動採樣 之儀器分析系統。 四十六、初檢測值：指檢測某設備元件逸散之揮發性有機物原始讀值。四十七、背景濃度 值：指偵測儀器在欲檢測之設備元件上風位置一公尺至二公尺處，隨機所量得之揮發性有 機物儀器讀值，若該量測位置有遭受其他鄰近設備元件干擾時，其距離不得少於 二十五公分。 四十八、淨檢測值：指初檢測值減去背景濃度值之淨值。 四十九、洩漏定義值：指設備元件之淨檢測值一千 ppm以上。但氣體釋壓裝置之淨檢測值 為一百ppm。 五十、洩漏源：指設備元件淨檢測值超過洩漏定義值，或目視發現製程流體自設備元件處 滴漏者。 五十一、洩漏比例：指製程內某類設備元件流經氣體、輕質液或重質液製程流體之洩漏源 個數，占該類元件檢測總個數之比例。 五十二、揮發性有機物排放削減率（以下簡稱削減率）：指揮發性有機物經污染防制設備 處理後之排放量削減百分比，依同步檢測污染防制設備前端及後端廢氣排放量進 行計算，其計算公式如下： （計算公式請參閱附件） 五十三、揮發性有機物排放濃度（以下簡稱排放濃度）：係以凱氏溫度二百七十三度及一 大氣壓下未經稀釋之乾燥排氣體積為計算基準，換算以甲烷當量表示，單位為 p pm。 五十四、石油煉製製程：指以石油為原料，經蒸餾、精煉及摻配從事石油製品之製造程序 。 五十五、實際蒸氣壓：指以常溫儲存或裝載之物料，其於二十℃時之蒸氣壓；非常溫儲存 或裝載者，其實際操作最大溫度之蒸氣壓。 五十六、廢水收集系統：指具有收集、輸送及貯留廢水功能之單元設備，包括箱涵、人孔 及廢水坑等單元。 五十七、廢水處理設施初級處理單元設備：指以 ?澱、浮除、篩除、沈砂、磨碎或調勻等 物理處理方法，去除廢水中大部分可沈降物或懸浮固體之單元設備，包括油水分 離池及調勻池等單元。 五十八、緊急狀況：因突發事故、無法預期且不可抗力之事件，導致公私場所產生安全危 害之虞，需立即採取緊急處理行動，以回復正常安全操作之狀況。 五十九、廢氣燃燒塔使用事件：指公私場所具石油煉製製程或輕油裂解製程者，所有廢氣 燃燒塔每日處理廢氣總流量大於三萬立方公尺；其餘公私場所之所有廢氣燃燒塔 每日處理廢氣總流量大於一萬五千立方公尺之情形。 六十、流量計：可直接或間接測得廢氣、燃料或蒸氣排放體積流量之設備。 六十一、每季有效監測時數百分率：指監測設施每季之有效監測時數比率，其計算公式如 下： （計算公式請參閱附件） 六十二、氣密狀態：淨檢測值低於一千ppm之狀態。 六十三、儲槽真空壓力調節閥：維持儲槽在設定壓力下操作，以降低其揮發性有機物排放 之裝置。 六十四、排空槽：浮頂邊緣之浮頂負載支架不高於三十公分，且槽底傾斜朝向集水坑之地 上儲槽。 六十五、污泥處理設施：指廢水處理設施之污泥輸送、濃縮、消化、調理及脫水等設施。 六十六、圍封式集氣系統：指以阻隔物包圍污染源，使污染源與廠房其他空間隔絕之系統 。該系統之圍封空間應維持負壓操作狀態，使污染源排放之空氣污染物能完全收 集至污染防制設備。 六十七、水封槽：以水隔離氣體的裝置，使廢氣燃燒塔集氣管保持正壓操作，且具有防止 回火功能之設備。 六十八、燃料氣系統：指收集石化製程可燃氣體並經壓縮機、管線、氣液分離設施、緩衝 槽及去除硫化物之鹼洗系統等單元前處理，使該氣體得以用於鍋爐或石化加熱設 施之系統，其設置目的應為提供製程作為燃料使用用途。

第十二條
本章適用對象為公私場所具有石化製程之設施。但下列石化製程之設施不適用本章規定： 一、產製食用酒精之製程。 二、以石化中間產品為原料進行物理加工之製程。 三、排氣中揮發性有機物排放量小於三百五十 mg／min（揮發性有機物排放量以甲烷表示 ）之批次操作製程。 四、排氣流量小於六十Nm3／hr之連續操作製程。 五、其他經中央主管機關公告之製程。

第十三條
石化製程原物料或產品輸送管線不得破損，且排放管道排氣應以密閉集氣系統收集。但採 密閉集氣系統有困難並報經主管機關核可者，不在此限。 前項排氣之排放標準如下表。但未採密閉集氣系統者，應適用削減率之規定。

第十四條
石化製程排放管道之污染防制設備應符合下列規定： 一、廢氣導入處設置流量計及連續紀錄設施。 二、設置溫度量測器及連續紀錄設施，設置位置如下： （一）熱焚化爐爐膛內。 （二）觸媒焚化爐觸媒床前後。 （三）冷凝器冷凝液出口端。 三、使用前款以外之污染防制設備者，應設置足以有效監視其正常操作之連續監測及紀錄 設施，並提出書面資料報經主管機關核可。 前項使用焚化設施為污染防制設備者，其溫度量測器所得之連續三小時平均溫度，不得低 於標準操作溫度三十℃以上。 公私場所依第一項設置流量計有困難者，報請地方主管機關核可後，得以其他監測方式替 代。

第二十八條
本章適用對象為公私場所具有石化製程或第十五條規定揮發性有機液體儲槽之設備元件， 其分類包括泵浦、壓縮機、釋壓閥、安全閥等釋壓裝置、取樣連接系統、開口閥、閥、法 蘭、管牙、快速接頭或其他與製程設備銜接之連接頭等。但下列設備元件不適用本章規定 ： 一、流經該設備元件之流體中，其揮發性有機物重量比小於百分之十者。 二、屬於真空設備元件者。 三、設備元件埋於地下無法量測者。

第二十九條
公私場所設備元件之洩漏管制規定如下： 一、設備元件軸封處之製程流體包括重質液及輕質液，製程流體滴漏每分鐘不得超過三滴 。 二、設備元件之淨檢測值不得大於一萬 ppm。 三、設備元件之淨檢測值大於二千 ppm之比例不得大於百分之二。 四、開口閥之下游端應裝設栓蓋、盲法蘭、栓塞或二次閥以封止其開口端。但實際操作中 製程流體需自開口閥排出者，不在此限。 五、輕質液及氣體取樣連接系統應符合下列規定之一： （一）取樣連接系統裝設有密閉集氣系統連通至污染防制設備，且該污染防制設備符合 第三十條第一項第四款第一目之規定。 （二）採用密閉迴路式取樣連接系統。 （三）採用線上取樣分析系統者。 前項第一款至第三款不適用已依第三十二條第二款規定標示標籤，且依第三十一條規定期 限內修護之設備元件。

第三十條
公私場所應完成設備元件建檔，並依下列規定進行設備元件洩漏檢查（測）： 一、輕質液泵浦應每週目視檢查其軸封處是否有製程流體滴漏。 二、重質液設備元件應每週目視檢查或以嗅聞、聽覺等其他簡易方法檢漏。 三、發現前二款有洩漏跡象者，應於五日內進行檢測，以確認是否為洩漏源。 四、輕質液及氣體設備元件應每三個月檢測一次。但符合下列規定之一者，不在此限： （一）設備元件裝設密閉集氣系統連通至鍋爐或加熱爐之爐膛火焰區或其他使削減率達 百分之九十五之污染防制設備。 （二）輕質液泵浦、氣體壓縮機具止漏流體軸封系統，且該系統符合下列規定者： 1.止漏流體之操作壓力恆大於軸封填料箱壓力。 2.裝設可監測止漏流體軸封系統異常或失效之警報裝置；未裝設警報裝置者，應 每日檢查軸封系統並作成紀錄。 3.軸封系統之設計具備可將止漏流體吹排回製程流體或密閉集氣系統者。 五、無洩漏型式或屬於難以檢測之重質液設備元件應每四年檢查一次；無洩漏型式或屬於 難以檢測之輕質液及氣體設備元件應每二年檢測一次。 六、輕質液及氣體設備元件應每三個月檢測一次。但符合下列情形，並經地方主管機關核 可者，得依下列規定變動檢測頻率。但違反第二十九條規定者，應回復其原定之檢測 頻率： （一）連續六個月洩漏比例均小於百分之０．三者，得每六個月檢測一次。 （二）連續一年洩漏比例均小於百分之０．一者，得每一年檢測一次。 七、氣體釋壓裝置設有密閉集氣系統連通至污染防制設備，且該污染防制設備符合第四款 第一目之規定者，得免檢測。 公私場所應委託檢驗測定機構檢測前項第三款至第七款設備元件之洩漏。 公私場所依第一項第一款至第五款進行設備元件檢查（測）有困難者，應報經地方主管機 關核可後，得以其他檢查（測）方式替代。

第三十一條
公私場所應依下列規定進行設備元件修護： 一、設備元件經發現為洩漏源者，應於發現時起四十八小時內以鎖緊或密封等方式修護。 無法以鎖緊或密封等方式修護者應於發現日起十五日內以更換零件或克漏等方式修護 。 二、採取前款修護方法後仍無法完成修護者，應於發現日起二十日內檢具洩漏源發現日期 、修護方法、展延修護之理由、展延修護時間及洩漏源之維護措施，報經地方主管機 關核准後，始得展延。主管機關應依實際狀況核定展延期限，最長不得超過最近一次 停車期間。 三、前款所稱完成修護係指修護後洩漏源淨檢測值低於洩漏定義值。

第三十二條
公私場所應依下列規定進行設備元件洩漏檢查（測）之紀錄、保存及申報： 一、設備元件之定期檢查（測）應做成紀錄，包括檢查方式或使用之檢測儀器型式、檢查 （測）人員姓名、元件編號、元件型式、流體組成、檢查（測）日期及結果。 二、設備元件經檢查（測）判定為洩漏源者，應將相關資料記錄在維護紀錄表上，並以標 籤標示，包括檢查方式或使用之檢測儀器型式、檢查（測）人員姓名、洩漏源之元件 編號、洩漏源發現日期、洩漏源修護前後檢測濃度、修護完成日期、修護方法、展延 修護之理由。 三、前款設備元件經檢查（測）判定為洩漏源者，應依中央主管機關所定之格式，以網路 傳輸方法下載標籤，並以防水保護標示在洩漏源上，修護完成後，以網路傳輸方式申 報維護紀錄表及修護結果，始得拆除標籤。 四、檢測儀器之校正、保養及維護資料應做成紀錄。 五、第一款至第四款紀錄資料應製成檔案，保存五年備查。 六、公私場所應於每年一月、四月、七月及十月之月底前，向地方主管機關申報前一季之 第一款紀錄。

第三十三條
製程釋壓裝置應以密閉集氣系統收集連通至污染防制設備或燃料系統。但有困難並報經主 管機關核可者，不在此限。 逕排大氣之製程釋壓裝置，應記錄每次釋壓期間及排放量。連續二十四小時累積排放揮發 性有機物大於二百公斤事件時，應於十五日內，依中央主管機關所定之格式，向地方主管 機關提報事件排放報告書。 前項事件排放報告書之內容應包括下列事項： 一、釋壓裝置名稱及位置。 二、釋壓裝置排放事件的原因。 三、釋壓裝置排放事件的日期、時間及期間。 四、排放揮發性有機物的成分、排放量、計算方式及證明文件。 五、防止未來同類事件再發生之方法。 六、其他經主管機關規定之項目。 逕排大氣之釋壓裝置每次釋壓排放後五日內應以偵測儀器進行檢測，以判定其是否為洩漏 源，不得適用第三十條第一項第五款之規定。

第三十四條
石化製程設備元件污染防制設備之流量計及連續自動監測設施適用第十四條之規定。