- 空氣污染防制法
-
第二十條(固定污染源排放空氣污染物之排放標準)
公私場所固定污染源排放空氣污染物,應符合排放標準。 前項排放標準,由中央主管機關依特定業別、設施、污染物項目或區域會商有關機關定之。 直轄市、縣(市)主管機關得因特殊需要,擬訂個別較嚴之排放標準,報請中央主管機關會 商有關機關核定之。 第一項排放標準應含有害空氣污染物,其排放標準值應依健康風險評估結果及防制技術可行 性訂定之。 前項有害空氣污染物之種類及健康風險評估作業方式,由中央主管機關公告之。
-
第二十二條(自動監測設施之設置、監測及檢測)
公私場所具有經中央主管機關指定公告之固定污染源者,應於規定期限內完成設置自動監測 設施,連續監測其操作或空氣污染物排放狀況,並向直轄市、縣(巿)主管機關申請認可; 其經指定公告應連線者,其監測設施應於規定期限內完成與直轄市、縣(巿)主管機關連線 ,並公開於直轄市、縣(巿)主管機關網站。 前項以外之污染源,各級主管機關認為必要時,得指定公告其應自行或委託檢驗測定機構實 施定期檢驗測定。 前二項監測或檢驗測定結果,應作成紀錄,並依規定向直轄市、縣(巿)主管機關申報;監 測或檢驗測定結果之記錄、申報、保存、連線作業規範、完成設置或連線期限及其他應遵行 事項之辦法,由中央主管機關定之。
-
第二十三條(固定污染源及其空氣污染物之控制管理)
公私場所應有效收集各種空氣污染物,並維持其空氣污染防制設施或監測設施之正常運作; 其固定污染源之最大操作量,不得超過空氣污染防制設施之最大處理容量。 固定污染源及其空氣污染物收集設施、防制設施或監測設施之規格、設置、操作、檢查、保 養、記錄及其他應遵行事項之辦法,由中央主管機關定之。
- 揮發性有機物空氣污染管制及排放標準
-
第十二條
本章適用對象為公私場所具有石化製程之設施。但下列石化製程之設施不適用本章規定: 一、產製食用酒精之製程。 二、以石化中間產品為原料進行物理加工之製程。 三、排氣中揮發性有機物排放量小於三百五十 mg/min(揮發性有機物排放量以甲烷表示 )之批次操作製程。 四、排氣流量小於六十Nm3/hr之連續操作製程。 五、其他經中央主管機關公告之製程。
-
第十三條
石化製程原物料或產品輸送管線不得破損,且排放管道排氣應以密閉集氣系統收集。但採 密閉集氣系統有困難並報經主管機關核可者,不在此限。 前項排氣之排放標準如下表。但未採密閉集氣系統者,應適用削減率之規定。污染源
適用對像
排放標準
備註
空氣氧化單元及蒸餾操作單元
中華民國八十六年二月六日以前設立者
削減率達百分之九十或排放濃度一百五十ppm下
控制或處理前排放濃度達一千五百ppm者僅適用排放濃規定。但已達最佳可行控制技術之效率者,不在此限。
中華民國八十六年二月七日以後設立者
削減率達百分之九十五或排放濃度一百ppm以
控制或處理前排放濃度達二千ppm者僅適用排放濃度規。但已達最佳可行控制技術之效率者,不在此限。
其他石化製程單元
中華民國八十六年二月六日以前設立者
削減率達百分之九十或排放濃度二百ppm以下
控制或處理前排放濃度達二千ppm者僅適用排放濃度規。但已達最佳可行控制技術之效率者,不在此限。
中華民國八十六年二月七日以後設立者
削減率達百分之九十五或排放濃度一百五十ppm以下
控制或處理前排放濃度達三千ppm者僅適用排放濃度規。但已以達最佳可行控制技術之效率者,不在此限。